化学等离子清洗(PE)

化学等离子清洗(PE),即将激发到等离子态的活性粒子与表面分子反应,而残余物进一步分解形成气相残余物而脱离表面。

等离子体就是由正离子、负离子、自由电子等带电粒子和不带电的中性粒子如激发态分子以及自由基组成的部分电离的气体,由于其正负电荷总是相等的,所以称为等离子体。这也是物质存在的又一种基本形态(第四态)。一种新形态必然有与其相应的化学行为,由于等离子体中的电子、离子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易与固体表面发生反应,这种反应可分为物理的或化学的。用等离子体通过化学或物理作用时对工件(生产过程中的电子元器件及其半成品、零部件、基板、印制电路板)表面进行处理,实现分子水平的污渍、沾污去除(一般厚度在3nm~30nm),提高表面活性的工艺叫做等离子体清洗。其机理主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”,达到去除物体表面污渍的目的,其通常包括无机气体被激发为等离子态、气相物质被吸附在固体表面、被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子、产物分子解析形成气相、反应残余物脱离表面等过程。

等离子清洗PE

表面反应以化学反应为主的等离子体清洗,习惯上称等离子清洗PE,许多气体的等离子态可产生高活性的粒子。从化学反应式可知,典型的PE工艺是氧气或氢气等离子体工艺,用氧等离子通过化学反应,能够使非挥发性有机物变成易挥发性的CO2和水汽,去除沾污物,使表面清洁;用氢的等离子可通过化学反应,去除金属表面氧化层,清洁金属表面。反应气体电离产生的高活性反应粒子,在一定条件下与被清洗物体表面发生化学反应,反应生成物是易挥发性物,可以被抽走,而针对被清除物的化学成分,选择合适的反应气体组分是极为重要的。PE的特点是表面改性,清洗速度较快,选择性好,对有机沾污污染比较有效。其不足是可能产生氧化物。