光学仪器

   光学镜片的镀膜技术是整个光学系统的一个重要组成部分,良好的镀膜技术能改善镜片的折射率、阿贝数、散射、衍射和化学性能。光学薄膜真空镀膜技术一般采用物理气相沉积(PVD)技术,包括热蒸发、溅射、离子镀等方法。而在镀膜前的光学镜片一般须经过离心力清洗机和超声波清洗机清洗,但若想要得到超洁净的基体表面,则需进一步的采用等离子体清洗,离子镀技术利用了物理气相沉积技术和高能粒子的物理轰击作用。开始镀膜前,用离子束轰击基片,可以改善基片表面的洁净度和黏附性。镀膜过程中,离子束的轰击使基板表面温度升高,活化的表面有利于薄膜的成核。可以通过对离子碰撞的控制来调控薄膜的组分,改善薄膜的性能,提高薄膜在基片表面的覆盖率和密度。维持反应腔内的高气压可以提高薄膜蒸汽分子的散射率,从而在衬底上获得高均匀性的薄膜。在一些应用中,等离子体可以用于激活反应物种,还可以用来产生在反应沉积过程中更容易被吸附的新的化学生成物。

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