微波等离子清洗机与射频等离子清洗机的主要区别是等离子体的激发频率不一样，微波等离子清洗机用的等离子体激发频率是2.45GHz而射频等离子清洗机用的等离子体激发频率为13.56MHz。正是因为两者所用的等离子体激发频率不一样所以清洗的适用对象也不一样，下面就讲一下微波等离子清洗机与射频等离子清洗机的主要区别。

射频等离子清洗机与微波等离子清洗机区别如下：

13.56MHz等离子体为射频等离子体，发生反应为物理和化学反应；频率达到2.45GHz的等离子体为微波等离子体，离子浓度最高，发生反应为化学反应，典型的工艺是氧气或氢气等离子体工艺。用氧等离子通过化学反应，能够使非挥发性有机物变成易挥发性的CO2和水蒸气，去除沾污物，使表面清洁；用氢等离子可通过化学反应去除金属表面氧化层，清洁金属表面。

微波等离子清洗机与低频或射频放电产生的等离子体相比，它的特点是没有正负电极，自偏压很小，不会产生放电污染，有效防止静电损伤；等离子密度高，生产效率高；离子运动冲击小，不会产生UV（紫外线）辐射，尤其适用于一些敏感电路的制程清洗。

等离子清洗机激发频率和自偏压的关系

正是因为具有以上优点，微波等离子在一些工艺中具有不可替代性，例如一些电敏感器件制程中的去胶和清洗。由于激发频率高，离子动能小，化学等离子作用在微波等离子中占主要部分，可以实现更均匀有效地清洗，在清洗中没有物理等离子体所产生的物理冲击和溅射现象，在高可靠性要求的器件尤其是军用器件生产工艺过程中，微波等离子清洗机成为关键首选的设备。